大（dà）型冷水機組在真空鍍膜工藝的作用體現

大型冷水機組在真空鍍膜工藝中有什麽（me）作用？

真空（kōng）鍍膜工作原理是膜體在（zài）高溫下蒸發落在工件表麵結晶。由於空氣對蒸發的膜體分子會產生阻（zǔ）力造成碰撞使（shǐ）結晶體變（biàn）得（dé）粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光（guāng）亮（liàng），果如真空度不高結（jié）晶體就（jiù）會失去光澤（zé）結合力也很（hěn）差。早期真空鍍（dù）膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射（shè）靶用（yòng）磁控（kòng）射靶將膜體的蒸發分子在電場的（de）作用下加速轟擊靶材（cái），濺（jiàn）射出大量的靶材原子，呈中性的靶原（yuán）子（或（huò）分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然（rán）蒸發無法加（jiā）工的（de）膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體（tǐ）流動時有一個集膚效應，電荷會聚（jù）集在電（diàn）導有表麵積，這樣使電導發熱（rè）所以采用中孔（kǒng）管（guǎn）做導體（tǐ）中間加水冷卻。 控濺射靶在發射時會產生（shēng）高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁（cí）控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜 - 基結（jié）合力好。