大型（xíng）冷水機組在真空（kōng）鍍（dù）膜工作（zuò）原理是膜體在高溫（wēn）下蒸發落在工件表麵結晶。由於空氣（qì）對蒸發的（de）膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得（dé）粗糙無光，所以必須在高真空下才能使（shǐ）結晶體細密光亮，果如真空度不（bú）高（gāo）結晶體（tǐ）就會失去光澤結（jié）合力也很差。早期（qī）真（zhēn）空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合（hé）差（chà）工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶（bǎ）用磁（cí）控射（shè）靶將膜（mó）體的蒸（zhēng）發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性（xìng）的靶原子（或（huò）分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸（zhēng）發無法加工的膜體品種（zhǒng），如鍍鈦鍍鋯等等。
中頻設備必須加冷（lěng）卻水，原因（yīn）是它的頻率高（gāo）電流大。電流在（zài）導（dǎo）體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導有表麵積，這樣使電導（dǎo）發熱所以采用中孔管做導體中（zhōng）間加水冷卻。 磁控濺射靶在發射時會產生高溫（wēn）會使射槍變形，所以它有一個水（shuǐ）套來冷卻（què）射槍。同時（shí）還有一個（gè）重要原因磁控濺射可以被認（rèn）為是鍍膜技術中最突出（chū）的成就之（zhī）一。它以濺射率高、基片溫升低、膜 - 基結合力好。
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