大型冷水（shuǐ）機組在真空鍍膜中（zhōng）的作用

大型冷水機組在真空鍍（dù）膜中（zhōng）的（de）作用有哪些體現？

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件（jiàn）表麵結晶。由於空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰（pèng）撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結（jié）晶體細密（mì）光亮，果（guǒ）如真空度（dù）不（bú）高結晶體就會（huì）失去光澤結合力也很差（chà）。早期真空（kōng）鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控（kòng）射靶將膜體的蒸發分子在電（diàn）場的作用下加速轟（hōng）擊靶（bǎ）材，濺射出大（dà）量的靶（bǎ）材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積（jī）在基片上成膜，解決了過去自然蒸發（fā）無（wú）法加工（gōng）的（de）膜體（tǐ）品種，如鍍鈦（tài）鍍鋯等等。

中（zhōng）頻設（shè）備必須加冷（lěng）卻（què）水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體（tǐ）流動時有一個集膚效（xiào）應，電荷會聚集在電導有表麵積，這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。

為什麽也要用水冷卻（què）？磁控濺射靶在（zài）發射時會產生高溫會（huì）使射槍變形（xíng），所以它有一個水（shuǐ）套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因（yīn）磁控（kòng）濺射可以（yǐ）被認為是鍍（dù）膜（mó）技術（shù）中（zhōng）最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低（dī）、膜 - 基結合力好。